China impulsa su tecnología de litografía y avanza en la fabricación de chips
La industria de los semiconductores es clave para el desarrollo tecnológico, y China continúa invirtiendo para fortalecer su capacidad de producción. Su más reciente avance es la primera máquina de litografía de vanguardia fabricada en el país, a la que se suman otros dos proyectos que podrían situar a su industria de chips en un nuevo nivel.
La litografía NIL y el salto hacia la UVE
Pulin Technology ha entregado su primer equipo basado en litografía de nanoimpresión (NIL), capaz de producir chips de 5 nm y, en el futuro, hasta 2 nm. Aunque esta técnica es más económica que la fotolitografía de ultravioleta extremo (UVE), su proceso es más lento. En paralelo, Huawei prueba en Dongguan un prototipo de máquina UVE totalmente desarrollada en China, lo que abriría la puerta a la producción masiva de chips avanzados en los próximos años.
El papel del sincrotrón HEPS
El proyecto más ambicioso corre a cargo de la Academia China de Ciencias: un acelerador de partículas llamado HEPS, diseñado para generar luz UVE de alta potencia. Esta radiación es fundamental para fabricar semiconductores con mayor resolución y más transistores. El plan es conectar el sincrotrón con varias plantas de producción, suministrando luz como si fuera electricidad desde una central.
Un camino hacia la autosuficiencia tecnológica
China ha destinado miles de millones de dólares a su industria de semiconductores, y la combinación de NIL, UVE y el HEPS refuerza su apuesta por la litografía china como pilar de su desarrollo y autosuficiencia tecnológica en la producción de chips avanzados.
